最先进的大型空白光罩
在各种各样的TFT LCD和触摸屏生产场合中不可或缺的大型空白光罩。
高质量供给最大至G10.5代尺寸。
另外，很早便在担负新一代的相位移掩膜和半透掩膜的制品化上取得了成功，并得到了很高的评价。
利用公司内部多年的开发设计经验完善精细化和大型化的制造技术和自动化技术。
大型Cr（铬）空白光罩
特征
▶优秀的低欠陷性
▶将PH（孔洞）和Particle（颗粒）等欠陷降低到极致
▶微细Pattern的光罩也可以放心使用
▶优越的光学特性
▶面内特性偏差极小、极稳定
光阻涂布
（暂无）
尺寸
最大对应至1620mm x 1780mm
大型位相移掩膜版
低反射光罩的先驱
为FPD制造带来革新的相位移空白光罩
我司作为其开拓者、顶级供应商前进着。
大型半透空白掩膜版
从低透过率到高透过率皆可生产
用于降低FPD面板制造成本的半透空白掩膜版。
我司是半透空白掩膜版的顶级供应商。尺寸和透过率都可以根据客户的需求，广泛而细致的对应。
尺寸
最大对应至半透空白掩膜版的世界级最大尺寸：1620mm x 1780mm